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MultiPrep™

 前数字指示器显示实时的材料去除率(样品的行程),1微米分辨率

 后置的数字指示器显示垂直位置(静态),具有归零功能,1微米分辨率

 双轴测微计控制样品角坐标设置(斜度和摆度),+10°/-2.5°幅度, 0.02° 增量

 精确主轴设计保证样品垂直于研磨盘,使之同时旋转

 6倍速样品自动摆动

 8倍速样品自动旋转

产品介绍

MultiPrep™系统适用于高精密(金相,SEM,TEM,AFM等)样品 的半自动准备加工。主要性能包括平行抛光,精确角度抛光,定点抛 光或几种方式结合抛光。它解决了操作者之间的不一致性,提供可重 复的结果;而不管他们的技能如何,MultiPrep 无须手持样品,保证 只有样品面与研磨剂接触。

双测微计(倾斜度和摆动度)允许相对于研磨盘进行精确的样品 倾斜度调整,精密的Z-轴指示器保证在整个研磨/抛光过程中维持预 定义的几何方向。

数字指示器可以量化材料的去除率,可以实时监测或进行预先设 定的无人操作。可变速的旋转和振荡,能够最大限度地提高整个研磨 /抛光盘的使用和减少手工制样。可调负荷控制,扩大了其从小样品 (易碎样品)到大样品的全方位处理能力。

常见的应用包括并联电路层级、横截面、楔角抛光等。

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产品特点

 前数字指示器显示实时的材料去除率(样品的行程),1微米分辨率

 后置的数字指示器显示垂直位置(静态),具有归零功能,1微米分辨率

 双轴测微计控制样品角坐标设置(斜度和摆度),+10°/-2.5°幅度, 0.02° 增量

 精确主轴设计保证样品垂直于研磨盘,使之同时旋转

 6倍速样品自动摆动

 8倍速样品自动旋转

 凸轮锁紧钳无需其他辅助工具,方便用户重新设置 工作夹具

 齿轮传动主轴应用于要求较高的转动力矩,较大或封装的样品

 样品调整范围:0-600克(100克增量)

 美国ALLIED设计制造

 7“LCD触摸屏,带键盘输入控制所有功能

 研磨盘速度范围:5-350 RPM(5转速增量)

 顺时针/逆时针研磨盘旋转

 数字计时器和转速表

 可选的AD-5 ™自动操作流体分配器

 调节阀电子控制冷却液

 0.5 HP(375 W),高扭矩马达

 稳定的RIM,铝和不锈钢结构

 腐蚀/耐冲击盖

 一年保修

 符合欧盟CE标准

 由美国Allied设计制造

产品型号
编号描述
15-2100MultiPrep™精密抛光系统,用于8”研磨盘, 100-240V 50/60Hz 1相
包括:飞溅环和压板盖,刻度盘指示器校准套件,夹具    /附件存储盒
尺      寸: 15" W x 26" D x 20" H (381 x 660    x 508 mm)
重量: 95 lb. (43 kg)
15-2100-TEM带O型环驱动的MultiPrep™系统,用于8”研磨盘, 100-240 V 50/60 Hz 1相 - 专为透射电子显微 镜而设计样品制备精致材料研磨抛光
包括:飞溅环和压板盖,刻度指示器校准套件,夹具/    附件存储盒
尺      寸: 22" W x 26" D x 21" H (560 x 660    x 535 mm)
重量: 125 lb. (57 kg)


配件选择
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