北京三和联科技有限公司自主研制的反应离子刻蚀机(RIE)系列产品基于平板式容式耦合等离子体技术，国产反应离子刻蚀机适用于硅类材料如单晶硅，多晶硅，氮化硅（SiNx），氧化硅（SiO2），石英(Quartz)以及碳化硅（SiC）等材料的图案化蚀刻，属于国内反应离子刻蚀机优质产品。

反应离子刻蚀（RIE）可用于制备微纳结构，是半导体制造工艺技术中的一种。RIE刻蚀过程中，等离子体中的各种活性粒子与材料表面形成挥发性产物。这些产物被从材料表面带走，最终实现对材料表面各向异性的微结构刻蚀。